Le fil de silicium est utilisé pour améliorer le rendement des cellules photovoltaïques, mais aussi dans des batteries ou des capteurs sophistiqués. Aujourd’hui il reste difficile de produire ces microfils en grande quantité et de façon contrôlée. En plus ils ne peuvent être connectés qu’à des surfaces planes. Or des chercheurs du Massachusetts Institute of Technology (MIT) ont réussi à simplifier le procédé et à en réduire le coût. Avec la nouvelle méthode, il devient possible également de les connecter à n’importe quelle surface courbe.


Pour fabriquer les microfils, une tranche de silicium est chauffée et polluée avec du cuivre. Quand le silicium refroidit, des gouttelettes de cuivre se forment à la surface. En plaçant la tranche dans un espace rempli de tétrachlorure de silicium sous forme gazeuse, les gouttelettes de cuivre absorbent le silicium du gaz. Quand la concentration du silicium dans le cuivre dépasse un certain niveau, des fils fins de silicium avec un diamètre de 10 à 20 um commencent à se former sur le cuivre. Le diamètre des fils est contrôlé par la température du gaz, tandis que la distance entre les fils peut être contrôlée à l’aide de petites bosses à la surface de la tranche de silicium.